피해회사 반도체 연구소 연구원으로 재직하며 경쟁업체로 이직한 직원에게 카카오톡과 대면으로 세정 공정 파티클 관리기준과 약액 온도·혼합비율 정보를 알려주었다.

- 1 - 수 원 지 방 법 원 판 결 사 건2023고단4340 산업기술의유출방지및보호에관한법률위반, 부정경 쟁방지및영업비밀보호에관한법률위반(영업비밀누 설등), 업무상배임 피 고 인A 검 사안덕중(기소), 이하윤, 송태환, 박현우, 장정윤(공판) 변 호 인법무법인 조율 담당변호사 **** 판 결 선 고2025. 6. 27. 주 문 피고인을 징역 6월에 처한다. 다만, 이 판결 확정일부터 2년간 위 형의 집행을 유예한다. 피고인에게 80시간의 사회봉사를 명한다. 이 사건 공소사실 중 별지 범죄일람표 순번 제1번, 제2번의 산업기술의유출방지및보호 에관한법률위반, 부정경쟁방지및영업비밀보호에관한법률위반(영업비밀누설등), 업무상 배임의 점은 각 무죄. 이 유 - 2 - 범 죄 사 실 1) 1. 피고인의 지위 등 피고인은 1994년경 피해회사 B(이하 ‘피해회사’라 한다)에 입사하여 1997년경 공정 개발팀에서 세정 공정인 클리닝 업무를, 2000년경 공정기술팀에서 설비관리 업무를, 2016년경 설비개발팀에서 신설비 개발 및 개조·개선 업무를 각 담당하였고, 2023년경 까지 피해회사 반도체 연구소 연구라인 운영팀에서 반도체 장비에 대한 설비 기술 라 인 관리 업무를 담당하였다. 피고인은 피해회사와 비밀유지계약, 협력업체와 보안 관련 계약 등을 체결하고, 기타 보안과 관련된 주의사항 등에 대해 숙지하며 ‘B나 그 관계사인 C 등 기업의 영업비밀 등을 알게 되면 이를 이용하여 회사에 손해를 가하거나 본인 혹은 제3자의 이익을 취 하면 안된다’는 취지의 내용으로 작성된 서약서에 서명하는 등 회사의 보안관리 규정 및 고용계약에 따른 부수적 의무 내지 신의칙상 회사의 영업비밀과 영업상 주요한 자 산을 재직 중 또는 퇴사 후에도 외부로 유출하거나 부정하게 사용하지 않아야 할 업무 상 임무가 있는 사람이다. 2. 피해회사의 영업비밀 관리방법 등 피해회사는 1969. 1.경 설립되어 반도체, 스마트폰, TV 등의 전자 제품을 생산 및 판 매하는 글로벌 전자 기업으로서 제품군에 따라 반도체 관련 DS(Device Solutions) 부문 과 이 외의 DX(Device eXperience) 부문으로 사업 분야가 나뉘어 있고, 이 중 DS 부 문은 (i) D램, 낸드플래시 등 제품을 생산‧판매하는 메모리 반도체 사업, (ii) 비메모리 반도체 제품을 위탁받아 생산하는 파운드리 사업, (iii) 모바일AP, 카메라 센서칩 등을 1) 피고인의 방어권 행사에 영향이 없는 범위 내에서 공소사실의 일부를 수정하였다. - 3 - 설계‧판매하는 시스템 LSI 사업 등으로 나누어진다. 피해회사는 반도체, 디스플레이, 전자제품, 가전제품 등의 제조·판매 사업을 영위하고 있고, 2021년 기준 매출 약 278조, 영업이익 약 52조원 규모의 국내 최대 기업이며, D 램 메모리 분야 세계시장 점유율 약 43.6%(2021년 기준), 낸드플래시 메모리 분야 점 유율 약 35.3%(2022년 1분기 기준)의 세계 최대 메모리 반도체 기업이다. 피해회사는 사내에서 USB 드라이브 등 외부 저장장치를 사용하는 것을 금지하고 회 사의 자료를 개인 이메일에 첨부하여 발송하지 못하도록 하며, 자료의 출력은 보안용 지에만 출력이 가능하도록 하고 회사를 출입하는 모든 사람에 대한 보안 검색을 실시 하는 등 영업비밀이 외부로 유출되지 않도록 관리하고 있다. 한편 C 주식회사(이하 ‘C’라 한다)는 피해회사의 자회사(지분 약 91.54%)로서 피해회 사(반도체 D램 세계 점유율 약 43.5%), B디스플레이(모바일 디스플레이 세계 점유율 약 63.2%) 등 B 계열사에 장비를 독점 공급하는 장비 전문회사이며, 2014년경 세계 최 초로 초임계 반도체 세정장비를 개발하는 등 D(일본), E(일본)과 함께 세계 3대 반도체 세정장비 제조업체이고, 국내 1위의 반도체 장비 제조업체(피해회사 반도체 세정장비 의 약 70% 공급, 반도체 장비 국내 점유율 약 60%, 2020년 기준 매출액 약 2조 7,079 억 원)이다. C가 생산하는 대표적인 반도체 세정장비는 **** 세정장비(제품명 ****), 초임계 세정장비(제품명 ****), 12챔버 세정장비(제품명 ****)가 있는데, 위 세 정장비들은 모두 피해회사의 반도체 라인에만 공급되는 비공개 장비이다. 3. 반도체 습식 세정장비의 영업비밀성 등 2) 2) 검사가 이 부분에 ‘습식 세정장비 기술’ 및 ‘초임계 세정장비’의 산업기술성 등에 관한 내용을 기재하였으나, 아래에서 보는 바와 같이 이 법원이 산업기술의유출방지및보호에관한법률위반의 점을 모두 무죄로 판단하고, 단지 별지 범죄일람표 순번 제 3번, 제4번 중 부정경쟁방지및영업비밀보호에관한법률위반(영업비밀누설등), 업무상배임의 점만을 유죄로 인정하므로, 공소사 - 4 - C는 습식 세정장비 자체 생산을 위하여 2005년경부터 기술개발 인력을 갖추고 2006. 7.경 개발비 약 201억 원을 들여 습식 세정장비인 ****를 개발하였고, 2010. 12. 경 개발비 약 220억 원을 들여 고온의 황산을 약액으로 사용하는 ****을 개발하는 등 다양한 세정방식, 구조의 세정장비를 개발하기 위해 인력과 자금을 투자하고 있다. 반도체 공정에서는 하나의 웨이퍼에 짧게는 한 달, 길게는 여러 달의 기간 동안 산 화, 포트, 식각, 증착, 이온주입 등을 수백 회 반복하여 수행하는 단계를 거치는데, 이 때 웨이퍼에 오염물질이 잔존하면 패턴 결함, 전기적 특성 저하 등이 발생하여 수율이 나 신뢰성이 저하될 수 있으므로, 이러한 오염물을 제거하는 웨이퍼 세정 공정은 반도 체 제조에서 큰 비중을 차지하는 중요한 공정이며, 세정장비는 품질과 성능이 반도체 양산수율에 큰 영향을 미친다. 반도체 세정 공정은 크게 습식 세정, 건식 세정, 증기 세정으로 나눌 수 있는데, C 세정장비들은 모두 습식 세정장비이며, 피해회사 반도체 양산 라인에서 불순물 제거 등의 세정 공정을 수행하기 위해 개발된 장비이다. 습식 세정은 세정 약액을 사용하는 세정 방식으로서 효과가 뛰어나고 신뢰성이나 재 현성이 우수하여 반도체 세정공정에서 가장 빈번하게 사용되는 기본적인 방식인데, 독 성과 반응성이 매우 강한 화학물질을 사용하면서도 웨이퍼의 오염을 방지하기 위해 정 밀하게 세정 공정을 수행해야 한다. **** 세정은 일반 습식 세정과 달리 고온의 황산 을 이용한 세정으로서, 황산과 과산화수소의 반응에 의해 웨이퍼에 남게 되는 유기 오 염물을 효과적으로 제거하며 세정 후 기판 위에 산화막을 형성시키고 기판 표면을 친 수성으로 만들어 다른 세정액의 젖음을 용이하게 하는 세정기술이다. 실 중 해당 부분을 직권으로 삭제하였음을 밝혀둔다. - 5 - 황산과 과산화수소의 비율에 따라 **** 세정장비의 온도와 반응성이 달라지므로 약 액의 비율 제어가 중요하고, 약액의 혼합을 위한 노즐의 형상과 운용 레시피 및 고온 의 황산 환경을 견딜 수 있는 부품 재질 등이 **** 세정장비의 핵심기술이다. 또한 고온의 황산약액을 약액으로 사용하면 수지(플라스틱)의 특성이 변화되어 세정 장비가 제 기능을 수행하기 어렵거나 파티클(Particle)이 생성되는 문제가 있으므로 그 구현을 위해 고난이도의 기술이 요구되고, 특히 황산과 과산화수소수의 비율에 따라 ****의 온도 및 반응성이 달라지므로 기판의 손상이 없으면서 오염물 제거 목적을 충 족하는 ‘비율’의 제어가 중요하다. 4. 구체적인 범죄사실 피고인은 C가 피해회사에 납품하는 **** 세정장비 등의 검수 업무를 담당하는 피해 회사의 반도체 연구소 연구원으로, 반도체 세정공정 연구‧개발 업무를 수행하였다. 피고인은 피해회사의 반도체 설비 검증 업무를 담당하고 있어 피해회사의 세정장비 기술정보, 공정정보 등 영업상 주요한 자산을 무단으로 반출하거나 제3자를 위하여 사 용하는 행위를 하지 않아야 하고, 피해회사의 이익을 위하여 업무를 수행하여야 할 계 약 및 신의칙상의 임무가 있었다. 그럼에도 불구하고 피고인은 위와 같은 업무상 임무에 위배하여 2019. 9. 18.경 경쟁 업체인 F 소속 공정개발1팀장 G에게 카카오톡 메시지를 통하여 별지 범죄일람표 순번 제3번과 같이 피해회사의 영업비밀이자 영업상 주요한 자산인 ‘**** 공정 파티클 관리기준’을 알려주었고, 2020. 7. 7.경 위 G을 만나 별지 범죄일람표 순번 제4번과 같 이 피해회사의 영업비밀이자 영업상 주요한 자산인 ‘약액 관련정보’를 G에게 알려주었 다. - 6 - 이로써 피고인은 부정한 이익을 얻거나 영업비밀 보유자에 손해를 입힐 목적으로 피 해회사의 영업비밀을 제3자에게 누설함과 동시에 영업상 주요한 자산에 대한 시장 교 환가격 상당의 재산상 이익을 취득하고 피해회사에 같은 금액 상당의 손해를 가하였 다. 증거의 요지 1. 제4회, 제5회 공판조서 중 증인 H의 진술기재 1. 제6회 공판조서 중 증인 I의 진술기재 1. 제6회 공판조서 중 증인 G의 일부 진술기재 1. I, H, J에 대한 각 검찰 진술조서 1. 공소장, G-A 카카오톡 등 대화내용 출력물 첨부, 피의자 A-G 카톡 대화내용 첨부, G의 스마트폰 메모내용 출력, G 카카오톡 대화내용 출력물_604, 각 판결문 등 1.영업비밀 등 보호 서약서, 영업비밀목록 등, 피해회사 공정정보 1. 각 등기부등본, 첨단기술 확인증, 첨단기술 제품 확인 신청서 등 법령의 적용 1. 범죄사실에 대한 해당법조 각 부정경쟁방지 및 영업비밀보호에 관한 법률 제18조 제2항 본문, 제1항 제1호 가 목(영업비밀을 제3자에게 누설하는 행위의 점), 각 형법 제356조, 제355조 제2항(업 무상배임의 점) 1. 상상적 경합 가. 형법 제40조, 제50조[별지 범죄일람표 순번 제3번 범죄 상호간, 형이 더 무거운 부정경쟁방지및영업비밀보호에관한법률위반(영업비밀누설등)죄에 정한 형으로 - 7 - 처벌] 나. 형법 제40조, 제50조[별지 범죄일람표 순번 제4번 범죄 상호간, 형이 더 무거운 부정경쟁방지및영업비밀보호에관한법률위반(영업비밀누설등)죄에 정한 형으로 처벌] 1. 형의 선택 각 징역형 선택 1. 경합범가중 형법 제37조 전단, 제38조 제1항 제2호, 제50조[범정이 더 무거운 별지 범죄일람표 순번 제3번 부정경쟁방지및영업비밀보호에관한법률위반(영업비밀누설등)죄에 정한 형에 경합범가중] 1. 집행유예 형법 제62조 제1항(양형의 이유 중 유리한 정상 참작) 1. 사회봉사명령 형법 제62조의2 피고인 및 변호인의 주장에 관한 판단 1.주장의 요지 가. 별지 범죄일람표 순번 제3번(이하 ‘순번 제○번’과 같은 형식으로만 표시한다) 정 보는 전체적으로 피고인이 허위의 정보를 알려준 것에 불과하다. 나. 순번 제4번 정보는 허위의 정보와 공개된 정보가 혼합되어 있고, 특히 G이 이미 알고 있었던 정보를 알려준 것에 불과하다. 다. 피고인에게는 부정한 이익을 얻거나 피해회사에 손해를 입힐 목적이 없었다. - 8 - 2. 순번 제3번 부분에 관한 판단 가. 인정사실 판시 각 증거에 의하면, ① G이 2019. 9. 18. 14:32경~14:36경 피고인에게 “질문 있습니다, LAL200 **** 싱글장비서 Bare MT(Monitoring의 약어)가 진행이 되었나 요, LAL ONLY, LAL+SC-1 등이요, Bare로 PC(Particle의 약어) MT가 진행이 된 것인 지, Oxide로 진행이 된 것인지요, LAL+IPA로 진행이 된 것인지요, Spec하고 좀 확인할 수 있을까요?”라는 메시지를 보낸 사실, ② 피고인이 같은 날 16:28경 “****+IPA, PC Bare 45nm 100ea, ER Oxide 1k 485±20Å”이라고 답하였고, G이 16:41경 “네, 확 인해 보겠습니다”라고 답한 사실, ③ 그 이후 G이 같은 날 16:45경 “형 근데 LAL과 IPA TIME은 어떤가요”라는 메시지를 보내자, 피고인은 17:09경 “LAL30, IPA10”이라고 답한 사실, ④ 피고인이 말한 ‘PC Bare 45nm 100ea’는 “**** 약액을 사용한 다음 IPA를 건조하는 Oxide 막질 제거공정에서 공정을 마친 이후 45nm 직경의 파티클(PC) 이 100개 이하로 확인되어야 한다”라는 기준으로, 피해회사가 실제로 채택하고 있는 것인데, 이는 ‘**** 약액, SC-1 약액을 일정한 시간 동안 차례로 사용한 다음 IPA 건조를 일정한 시간 동안 실시하였을 경우’에 대한 것인 사실, ⑤ 피고인이 말한 ‘LAL30, IPA10’은 “LAL 약액을 30초 사용하고, IPA 건조를 10초 실시한다”라는 의미 이나, 피해회사가 실제로 채택하고 있는 시간은 이와 다른 사실을 인정할 수 있다. 나. 구체적 판단 위 인정사실 등에 의하여 알 수 있는 다음과 같은 사정들을 종합하여 보면, 피고 인은 피해회사의 영업비밀이자 영업상 주요한 자산인 순번 제3번 정보를 G에게 알려 주었다고 봄이 타당하다. 이와 전제를 달리한 피고인 측의 주장은 받아들이지 않는다. - 9 - ① G은 2016년경 퇴사하기 전까지 약 20년 동안 피해회사에서 반도체 세정장비 유지‧보수 업무를 수행하였고, 특히 2012년경부터 2014년경까지는 피고인과 함께 세정 공정에 관한 업무를 담당하기도 하였다. G은 이 사건 당시 ‘LAL+SC-1 등’을 먼저 언 급하면서 피고인에게 파티클 관리기준의 구체적인 수치를 물어보았고, 이에 대하여 피 고인은 “****+IPA, PC Bare 45nm 100ea, ER Oxide 1k 485±20Å“이라는 수치를 답하였다. ② 위와 같은 G의 지위, 경력 등에 의하면, G은 피고인이 ‘****+SC-1+IPA’ 공 정의 파티클 관리기준을 알려주었다고 인식하였을 것으로 여겨지고, 피고인의 주장처 럼 G이 ‘(SC-1을 제외한) ****+IPA’ 공정의 파티클 관리기준을 인식하였을 것으로 보이지 않는다. 실제로 피고인은 ‘위 공정의 파티클 모니터링 조건에서 SC-1은 반드시 포함되는 것으로, 빠질 수 없는 것이다’라는 취지로 진술한 바 있고, 피해회사에 세정 장비를 납품하는 C의 직원인 I도 이 사건 공판절차에서 ‘SC-1 약액은 저희 설비에서 많이 쓰이는 것이어서 이를 인지하고 있다’라는 취지로 진술하고 있다. ③ 피고인은 당초 G으로부터 파티클 관리기준의 구체적인 수치에 관한 질문을 받 게 되자, 피해회사가 실제로 채택하고 있는 정보를 알려주었고, 그 이후 약액 등을 사 용하는 시간에 관하여 추가적인 질문을 받게 되자, 이에 관한 정보는 사실과 다르게 알려주었던 것으로 보인다. 피고인이 일단 피해회사가 실제로 채택하고 있는 파티클 관리기준의 구체적인 수치를 G에게 알려주었으므로, 그 시점에서 이미 범죄는 성립하 여 기수에 이르렀다고 보아야 하고, 특별한 사정이 없는 한 그 이후 추가적인 질문에 따른 답변을 허위로 하였고, 그것이 파티클 모니터링 조건과 직결되는 것이었다는 점 만으로 피고인이 알려준 정보가 전체적으로 허위의 정보에 해당한다고 단정할 수는 없 - 10 - 다. 3) 만약 G이 피고인에게 위와 같은 추가적인 질문을 하지 않았더라면 피고인의 범 죄가 성립되는 것인데, G의 추가 질문과 같이 피고인과 무관한 후발적 사정으로 인하 여 범죄의 성립 여부에 관한 판단이 달라진다는 것은 타당하지 않기 때문이다. 3. 순번 제4번 부분에 관한 판단 가. 해당 정보의 의미 등 1) 판시 각 증거에 의하면, 피고인이 2020. 7. 7.경 G을 만나 이 부분 정보[① **** Temp(25도 룸템), ② 유량 850㏄/min, ③ 비율 di:esc784 = 20:1 등]를 알려주 었던 사실을 인정할 수 있는데, 위와 같이 피고인이 알려주었던 정보들은 ‘피해회사가 반도체 세정공정 중 **** 약액을 투입할 경우의 온도, 유량, 혼합비율 등’이었다. 구체적으로 ① 부분은 ‘**** 약액을 사용하는 공정은 25°C 항온 상태를 유지 한다’는 의미이고, 4) ② 부분은 ‘위 약액의 유량 및 유속을 850㏄/min로 한다‘는 의미이 며, ③ 부분은 ’위 약액을 초순수(DIW)에 희석하여 사용하는데, 그 비율은 초순 수:**** 약액 = 20:1로 한다‘는 의미이고, ④ 부분은 ’위 약액을 미리 혼합시킨 상태 (pre mix)에서 투입한다‘는 의미이며, ⑤ 부분은 ’피해회사의 반도체 양산 세부공정 단 계(15.1), 웨이퍼 상에 형성된 금속 패턴을 상호 연결하여(via) 통전시키는 배선공정, 유기물(org, organic의 약어) 제거(strip) 공정‘을 의미하고, ⑥ 부분은 ’위 약액을 사용 하는 대표공정을 나열한 것(적층된 반도체의 하층부부터 배선을 형성하는 공정의 순서 에 따라 명칭을 붙인 것)‘을 의미하며, ⑦ 부분은 ’위 약액을 사용하는 세정장비로 초기 에는 K의 Velocity라는 것을 사용하였는데, 이후 C의 ****라는 것을 사용한다‘는 의미 3) 특히 G은 피고인으로부터 ‘약액 등을 사용하는 시간’에 관한 답변을 듣게 되자, ‘그렇게 하면 웨이퍼나 웨이퍼를 둘러싸고 있 는 실리콘산화막(SiO₂)의 상태가 괜찮은지’를 물어본 다음 피고인에게 ‘틀린 것 같습니다’라고 말하기도 하였다. 4) 여기에 상온(常溫)을 의미하는 ‘룸템(Room Temperature)’이라는 표현이 사용되기는 하였으나, 상온이 정확히 ‘25°C’를 의미한 다고 볼 수 없을 뿐만 아니라 ‘25도 룸템’이라고 표현되어 있으므로, 이는 ‘25°C의 항온(恒溫) 상태를 유지한다’는 의미였다고 해석함이 타당하다. - 11 - 이고, ⑧ 부분은 ’위 약액은 미국 L의 EKC590이라는 약액으로 대체할 수 있다‘라는 의 미이다. 2) 먼저 ② 부분에 관하여, 기록에 의하면, 피해회사가 위 약액을 사용하는 공정에 서 위 약액의 유량 및 유속을 ’웨이퍼 앞면 900㏄/min, 웨이퍼 뒷면 800㏄/min‘로 사용 하고 있는 사실을 인정할 수 있는데, 피고인은 웨이퍼 앞면과 뒷면을 구분하지 않은 채 단순히 ’850㏄/min‘라고 알려주었을 뿐임은 위에서 본 바와 같다. 설령 피해회사가 실제로 사용하는 유량 및 유속을 평균한 값이 피고인이 알려준 값(850㏄/min)에 해당 한다고 하더라도, 그것만으로 피고인이 피해회사가 실제로 보유한 것과 동일한 정보를 알려주었다고 보기 어렵고, 그마저도 상당히 부정확한 정보였다고 여겨진다. 다음으로 ④ 부분, 즉 ’공급방식: pre mix’라는 내용은 C가 2008. 2. 11. 공개한 ‘약액 혼합장치 및 방법’에 관한 특허(제10-2008-001190호)에 ‘반도체 제조공정에 사용 되는 약액들 중 일부는 약액 혼합장치가 복수의 처리액들을 기설정된 농도 및 온도 등 의 공정조건을 만족하도록 혼합함으로써 생성된다’라는 내용이 기재되어 있으므로, 반 도체 분야의 기술지식을 가진 사람으로서는 위 약액이 미리 혼합된 상태로 공급된다는 점은 충분히 알 수 있을 것으로 보인다. 또한 ⑥ 내지 ⑧ 부분은 ‘**** 약액을 사용하는 대표공정, 세정장비, 대체 약액’을 단순히 나열한 정보에 불과한 것으로 보인다. 3) 위와 같이 순번 제4번 정보 가운데 사실과 다르거나 이미 공개된 것이 포함되 어 있기는 하나, 피고인이 단일한 기회에 수개의 정보를 알려주었고, 거기에는 피해회 사가 실제로 채택하고 있는 정보도 포함되어 있는바, 여기에 앞의 순번 제3번 부분에 서 본 바와 같은 이유까지 함께 고려하면, 특별한 사정이 없는 한 피고인이 드는 사정 - 12 - 들만으로 순번 제4번 정보가 전체적으로 허위 또는 공개된 정보에 해당한다고 볼 수는 없다(피고인이 단일한 기회에 알려준 수개의 정보 가운데 범죄가 성립되는 것과 그렇 지 않은 것이 혼재되어 있으므로, 이를 개별적으로 특정하여 무죄로 판단하지는 않는 다). 따라서 아래에서는 (위 각 부분을 제외하고) 기술적으로 유의미한 것으로 볼 수 있는 ①, ③, ⑤ 부분에 한정하여 피고인 측 주장의 당부를 판단하기로 한다. 나. 구체적 판단 1) 위 각 부분에는 ”피해회사가 세정공정에 **** 약액을 사용하는데, 그 조건은 25°C 항온 상태이고(① 부분), 혼합비율은 초순수:**** 약액 = 20:1로 하며(③ 부 분), 위 약액을 사용하는 공정의 예시로 15.1 via org strip 공정을 들 수 있다(⑤ 부 분)’라는 정보가 포함되어 있고, 판시 각 증거에 의하면 위 각 정보는 피해회사가 실제 로 채택하고 있는 것임을 알 수 있다. 2) 피고인 측은 ③ 부분에 관하여, ‘위 약액의 혼합비율(20:1)은 이미 공개된 정보 에 해당한다‘라는 취지로 주장하면서, 인터넷 검색자료 및 위 약액의 홍보자료를 제출 하고 있다(증 제1호 참조). 살피건대, 피고인 측이 제출한 자료들에 의하면, 인터넷에 ’초순수와 위 약액을 20:1의 혼합비율로 사용한 바 있다‘는 내용이 게시되어 있고, 위 약액의 홍보자료에는 ’위 약액을 20:1에서 40:1의 비율로 혼합하여 사용할 수 있다‘라는 내용이 기재되어 있 는 사실은 인정할 수 있으나, 이는 위 약액의 혼합비율 가운데 채택할 수 있는 수치와 범위를 예시한 것에 불과할 뿐, 위 약액의 혼합비율이 이미 공개되어 있는 정보라고 볼 수 없고, 피해회사가 어떠한 세정공정(예를 들어, 15.1 via org strip 공정 등)에 초 - 13 - 순수와 위 약액을 20:1의 비율로 사용하고 있다는 것이 공개된 사실이었다고 볼 만한 자료도 찾아볼 수 없다. 3) 피고인 측은, “G이 이미 위 약액의 온도, 혼합비율 등 상세정보를 알고 있었으 므로, 위와 같은 정보를 알려주었다는 이유로 피고인을 처벌할 수는 없다”라는 취지로 주장하고 있기도 하다. 살피건대, 기록에 의하면, G이 (이 사건 범행 이전인) 2017. 4. 4.경 자신의 카카 오톡 계정의 대화창에 위 약액의 온도, 혼합비율 등 상세정보를 기재하여 두었던 사실 은 인정할 수 있으나(증거기록 제2권 제796면), G이 이 사건 범행의 약 3년 전에 자신 의 휴대전화에 위와 같은 메모를 남긴 적이 있다는 점만으로 이 사건 범행 당시 위와 같은 정보를 이미 알고 있었다고 볼 수는 없고, 오히려 피고인은 이 사건 범행 직전에 G으로부터 ’위 약액의 사용조건에 관한 정보가 기억나지 않는다‘는 취지의 말을 듣게 되자, G을 직접 만난 자리에서 위와 같은 정보를 알려주었던 것으로 보일 뿐이다. 4. 피고인에게 부정한 이익을 얻거나 피해회사에 손해를 입힐 목적이 있었는지 여부 가. 관련 법리 부정경쟁방지 및 영업비밀보호에 관한 법률 제18조 제2항 위반의 죄는 고의 외에 ‘부정한 이익을 얻거나 영업비밀 보유자에 손해를 입힐 목적’을 범죄성립요건으로 하는 목적범이고, 그와 같은 목적은 반드시 적극적 의욕이나 확정적 인식이 아니더라도 미 필적 인식으로도 되며, 그 목적이 있었는지 여부는 피고인의 직업, 경력, 행위의 동기 및 경위와 수단, 방법, 그리고 영업비밀 보유자와 영업비밀을 취득한 제3자와의 관계 등 여러 사정을 종합하여 사회통념에 비추어 합리적으로 판단하여야 한다(대법원 2007. 4. 26. 선고 2006도5080 판결, 대법원 2018. 7. 12. 선고 2015도464 판결 등 참 - 14 - 조). 나. 구체적 판단 판시 각 증거에 의하여 알 수 있는 피고인의 직업, 경력, 피고인이 G에게 순번 제 3번, 제4번 정보를 알려주게 된 경위에다가 ① G이 피고인에게 위와 같은 정보를 물어 본 이유에 관하여, “F로 이직하여 세정장비 개발업무를 하던 중 피해회사의 공정 일부 분을 벤치마킹하려고 하였고, 피고인이 알려준 정보 가운데 제게 유익한 것도 있었다” 라는 취지로 진술하고 있는 점, ② G이 이직한 F는 반도체 세정장비 설계 및 제작을 목적으로 하는 회사이고, 피고인도 그러한 사실을 잘 알고 있었던 점, ③ 피고인은 별 지 범죄일람표 기재 각 일시 외에도 수차례에 걸쳐 G으로부터 반도체 세정공정에 관 한 기술정보에 관한 질문을 받고, 이에 대한 답변을 해 주었는데(다만, 이는 기소되지 않은 것이다), 2019. 9. 4.경 ‘복사해 놓아, 출근 전에 삭제해야 해서~’라는 메시지를, 2020. 10. 12.경 ‘삭제 예정이니, 복사 바람’이라는 메시지를 보내는 등 자신이 G에게 피해회사의 기술정보 등을 알려주었다는 사실이 발각되지 않도록 나름대로 노력하는 모습을 보였던 점, ④ 특히 피고인은 2017. 6. 19.경 G으로부터 ‘초임계 세정장비’의 정 보에 관한 질문을 받자, G에게 ‘이렇게 알려달라고 하면 안돼!’라는 메시지를 보냈는데, ‘초임계 세정장비’는 피해회사의 자회사인 C가 세계 최초로 개발한 최첨단 장비였음을 감안하면, 피고인이 나름대로 G에게 알려줄 수 있는 정보의 중요도에 관한 기준을 가 지고 있었던 것으로 여겨지는 점, ⑤ G은 퇴사한 직후부터 순번 제4번 범행 당시까지 약 4년에 이르는 기간 동안 피고인에게 피해회사의 기술정보 등을 계속 물어보았고, 피고인도 피해회사에 출근하여 직접 해당 정보를 검색하는 등 상당 부분의 답변을 하 였던 것으로 보이는 점 등을 종합하여 보면, 피고인에게는 ‘피해회사에 손해를 입힐 목 - 15 - 적’이 있었다고 봄이 타당하다. 이와 다른 피고인 측의 이 부분 주장도 받아들이지 않 는다. 양형의 이유 1.법률상 처단형의 범위: 징역 15년 이하 2. 양형기준에 따른 권고형의 범위 5) 가. 제1, 2범죄[부정경쟁방지및영업비밀보호에관한법률위반(영업비밀누설등)] 6) [유형의 결정] 지식재산권 > 03. 영업비밀침해행위 > [제1유형] 국내침해 [특별양형인자] 감경요소: 실제 피해가 경미한 경우 [권고영역 및 권고형의 범위] 감경영역, 징역 6월 ~ 1년 6월 나. 다수범죄 처리기준에 따른 권고형의 범위: 징역 6월 ~ 2년 3월(제1범죄 상한 + 제2범죄 상한의 1/2) 3. 선고형의 결정: 징역 6월, 집행유예 2년 피고인은 반도체를 생산하는 피해회사에 소속된 연구원으로 근무하던 중, 과거 함께 근무하다 동종업계로 이직한 G으로부터 피해회사의 세정공정에 적용되는 파티클 관리 기준 및 약액 관련정보에 관한 질문을 받게 되자, G에게 해당 정보들을 누설하였다. 피고인이 누설한 정보들은 피해회사가 많은 시간과 비용을 들여 취득하게 된 것으로, 그것이 부분적이었다고 하더라도, 이러한 범행으로 인한 사회적 손실을 방지하고, 유사 한 범죄의 유인을 차단하여야 한다는 측면에서, 엄중히 대처할 필요가 있다. 그럼에도 피고인은 피해회사로부터 용서받지 못하였을 뿐만 아니라 자신의 잘못을 반성하지 않 5) 판시 각 범죄가 상상적 경합관계에 있어 양형기준이 적용되지 않으나, 피고인에 대한 적정한 양형을 검토하기 위하여 ‘참고 로’ 살펴보는 것이다. 6) 이 부분 범죄의 양형기준은 2024. 7. 1. 이후 기소된 사건에 대하여 적용되는 것이나, 피고인에 대한 적정한 양형을 검토하기 위하여 ‘참고로’ 살펴보는 것이다. - 16 - 고 있다. 이러한 정상들에 의하면, 피고인에 대하여는 그 죄책에 상응하는 처벌로서 징 역형을 선고하는 것이 타당하다. 다만, 피고인이 이 사건 범행의 일부 사실관계는 인정하고 있는 점, 피고인이 아무런 형사처벌의 전력이 없는 초범인 점, 피고인이 피해회사의 영업비밀 중 부분적인 정보 들을 누설하였던 것으로 보이는 점, 피고인이 어떠한 경제적 대가와 결부하여 이 사건 범행을 저질렀다고 볼 만한 자료는 찾아볼 수 없는 점 등 피고인에게 유리한 정상을 참작하여, 피고인에 대한 형의 집행을 유예하기로 한다. 그 밖에 피고인의 나이, 성행, 이 사건 범행의 동기 및 경위, 범행의 수단과 결과, 범 행 후의 정황 등 이 사건 기록 및 변론에 나타난 여러 양형 요소들을 종합적으로 고려 하여 주문과 같이 형을 정한다. 무죄 부분 1.이 부분 공소사실의 요지 피고인은 업무상 임무에 위배하여, ① 2016. 9. 12.경 경쟁업체인 F 소속 공정개발1 팀장 G에게 카카오톡 메시지 등을 통하여 피해회사와 C의 영업비밀, 산업기술(국가핵 심기술 및 첨단기술), 영업상 주요자산인 ‘LP-**** 유량정보 룸템 황산 600±50 FND-03 85±15’라는 내용을 알려주었고(순번 제1번 전부), ② 2017. 1. 12.경 위 G에 게 위와 같은 방법으로 피해회사의 영업비밀, 산업기술, 영업상 주요자산인 ‘세정설비 내의 파티클 스펙정보’를 알려주었으며(순번 제2번 전부), ③ 2019. 9. 18.경 G에게 위 와 같은 방법으로 피해회사의 산업기술인 ‘**** 공정 파티클 기준, IPA 건조 공정 레시피 정보’를 알려주었고(순번 제3번 중 산업기술의유출방지및보호에관한법률위반의 점), ④ 2020. 7. 7.경 G에게 피해회사의 산업기술인 ‘**** 약액 관련 온도, 혼합비 - 17 - 율 등 정보’를 알려주었다(순번 제4번 중 산업기술의유출방지및보호에관한법률위반의 점). 2. 각 산업기술의유출방지및보호에관한법률위반의 점 인정 여부(순번 제1 내지 4번) 가. 쟁점의 정리 검사는, 피고인이 별지 범죄일람표 기재와 같이 총 4회에 걸쳐 G에게 알려준 정보 가 전부 ‘산업기술의 유출방지 및 보호에 관한 법률(이하 이 항목에서 ’산업기술보호법 ‘이라 한다)’ 제2조 제1호 가목의 ‘국가핵심기술’ 및 나목의 ‘첨단기술’로서 위 법률에 규정된 ‘산업기술’에 해당함을 전제로 기소하였으므로, 피고인이 G에게 알려준 정보가 ‘산업기술’에 해당하는지 여부를 먼저 살펴보아야 한다. 나. 관련 법리 1) 산업발전법 제5조 제1항에 따른 ‘첨단기술 및 제품의 범위에 관한 고시’에서는 ‘반도체 부품/소재’ 또는 ‘반도체 장비’와 관련하여 ‘습식 세정장비 기술’ 및 ‘초임계 세 정장비’를 첨단기술로 지정하였으나, 산업발전법이 첨단기술의 의미 등에 대하여 명확 하게 규정하고 있지 않고, 산업기술보호법도 국가핵심기술에 관하여 마찬가지로 명확 하게 규정하고 있지 않으므로, 첨단기술, 국가핵심기술의 의미 등에 관하여는 그 문언 인 기술이 가지는 일반적인 의미와 용례 등을 토대로 산업발전법, 산업기술보호법의 입법 목적과 해당기술이 국가안보 및 국민경제에 미치는 파급효과, 관련 제품의 국내 외 시장점유율, 해당 분야의 연구동향 및 기술 확산과의 조화 등을 종합적으로 고려하 여 합리적으로 해석하여야 할 것이다(대법원 2012. 8. 30. 선고 2011도1614 판결 등 참조). 2) 산업기술보호법 제2조 제1호 나목에서는 첨단기술에 해당하기 위한 요건으로 - 18 - ‘산업발전법 제5조에 따라 고시된 것’ 이외에 ‘첨단기술의 범위에 속하는 기술일 것’을 요구하고 있는 점, 산업통상자원부고시에서 ‘대분류’, ‘중분류’, ‘소분류’, ‘첨단기술 및 제품’으로 첨단기술을 세분화하고 있으나, 해당 기술 및 제품명이 추상적이고 광범위하 여 그 기술 및 제품을 구현하는데 필요한 모든 기술이 첨단기술에 해당한다고 볼 경 우, 첨단기술의 범위가 지나치게 넓어져 가벌성이 무제한적으로 확대될 수 있는 점 등 을 종합하면, 고시의 문언에 해당하는 모든 기술이 첨단기술이라고 할 수는 없고, 해당 기술 및 제품을 구현하는데 필수불가결하고, 밀접하게 관련된 특유의 기술만이 첨단기 술에 해당한다고 보아야 한다. 3) 산업기술보호법은 ’산업기술의 부정한 유출을 방지하고 산업기술을 보호함으로 써 국내산업의 경쟁력을 강화하고 국가의 안전보장과 국민경제의 발전에 이바지함‘을 목적으로 한다. 산업기술보호법은 ’국가핵심기술‘에 해당하기 위한 요건으로 ’제9조에 따라 고시된 것‘ 이외에 ’국내외 시장에서 차지하는 기술적·경제적 가치가 높거나 관련 산업의 성장잠재력이 높아 해외로 유출될 경우에 국가의 안전보장 및 국민경제의 발전 에 중대한 악영향을 줄 우려가 있는 기술일 것‘을 요구하고 있고(제2조 제2호), ’국가핵 심기술‘ 고시에서는 ’분야와 기술명‘으로 국가핵심기술을 세분화하고 있으나, 해당 기술 명이 추상적이고 광범위하여 그 기술을 실현하는데 필요한 모든 기술이 국가핵심기술 에 해당한다고 볼 경우, 국가핵심기술의 범위가 지나치게 넓어져 가벌성이 무제한적으 로 확대될 수 있을 뿐만 아니라 산업기술보호법은 국가핵심기술의 보유자로 하여금 일 정한 관리 조치를 요구하고(제10조), 그 처분행위를 규제하고 있으므로(제11조), 위와 같이 국가핵심기술을 확대하여 해석할 경우 국가핵심기술 보유자의 기본권 내지 재산 권 행사가 지나치게 제한되는 문제점이 있다. 따라서 ’국가핵심기술‘ 고시에서 규정하 - 19 - 고 있는 ’기술명‘에 속하는 모든 기술이 국가핵심기술이 될 수는 없고, 위 고시에서 지 정한 기술이라고 하더라도 산업기술보호법 제2조 제2호 등의 요건을 충족하여야만 ’국 가핵심기술‘에 해당한다고 보아야 한다. 다. 이 사건에 적용되는 기준 피고인이 G에게 누설한 정보가 모두 ‘습식 세정장비 기술’ 및 ‘초임계 세정장비’에 관한 것으로, 그것이 ‘첨단기술’ 및 ‘국가핵심기술’에 해당한다고 보기 위하여는, 해당 정보가 ‘Process 처리기술’이나 ‘약액 제어기술’과 밀접하게 관련된 특유의 기술일 것 (습식 세정장비 기술) 또는 ‘초임계 건조에 관한 기술로 산업기술보호법 제2조 제2호 등의 요건을 구비한 것’임을 요한다고 봄이 타당하다. 그 자세한 근거는 다음과 같다. 1) 산업통상자원부고시에 규정된 ‘습식 세정장비 기술’은 그 문언과 용례상 건식 (乾式)과 구분되는 습식(濕式), 즉 약액을 이용한 웨이퍼 세정장비를 설계, 제조, 운용 하는 기술이다. C가 제작‧납품하여 피해회사가 운용하는 ‘매엽식 세정장비’의 핵심 기 술은 크게 ‘Process 처리기술’과 ‘약액 제어기술’로 구성되는데, ‘Process 처리기술’은 웨이퍼의 패턴에 영향을 미치지 않으면서 각종 파티클(Particle)을 제거(세정~건조)하기 위한 기술이고, ‘약액 제어기술’은 다양한 성분의 파티클을 제거하기 위하여 적합한 종 류의 약액을 특정한 온도, 농도 등의 조건에서 공급하는 기술이다. 2) ‘초임계 세정장비’는 기존 습식 세정장비의 회전식 웨이퍼 건조방식의 한계점 (IPA의 표면장력의 영향으로 미세 패턴이 기울어지는 현상)을 극복하기 위한 것으로, 일반적인 습식 세정장비와 동작방식은 크게 다르지 않고, 다만 일반 세정챔버 내에서 세정작업을 마친 웨이퍼를 일반 챔버에서 초임계 건조 챔버로 이동시킨 다음 초임계 상태의 이산화탄소를 이용하여 건조시킨다는 점에서 그 차이가 있다. 즉 초임계 세정 - 20 - 장비와 일반 습식 세정장비의 차별성은 ‘건조기술’에 있고, 그 기술에서 핵심적인 부분 은 이산화탄소가 초임계 상태를 유지할 수 있도록 하는 ‘온도’와 ‘압력’이다. 실제로 C 가 2022. 10. 11. 산업통상자원부장관으로부터 받은 ‘반도체 분야 국가핵심기술 확인’에 서도 그 대상은 ‘반도체 세정 및 초임계 건조 기술(1. 초임계 건조기 설계 기술, 2. 초 임계 건조기 제조 기술, 3. 초임계 건조 공정 기술, 4. 유기용매 전처리 기술)’로, 초임 계 건조 설비의 설계 및 제작, 초임계 건조 공정 기술이었음을 알 수 있다. 따라서 초 임계 세정장비와 관련하여 ‘국내외 시장에서 차지하는 기술적·경제적 가치가 높거나 관 련 산업의 성장잠재력이 높아 해외로 유출될 경우에 국가의 안전보장 및 국민경제의 발전에 중대한 악영향을 줄 우려가 있는 기술’만이 초임계 ‘건조’와 관련된 기술에 해 당한다고 보아야 한다. 7) 라. 구체적 판단 1) 순번 제1번 가) 이 부분 정보(LP-**** 유량정보 룸템 황산 600±50, FND-03 85±15)는 C가 제작‧납품하여 피해회사가 운용하는 ‘습식 세정장비’에서 사용되는 ‘약액의 종류(황산, FND-03), 혼합비율과 온도’를 나타낸 것으로, 피해회사가 이 사건 당시인 2016. 4.경 C에 제작을 의뢰한 습식 세정장비(WSD401)의 작동조건이 ‘항온(恒溫)에서 황산 600㏄ 및 FND-03 85㏄의 비율로 혼합한 약액을 사용하는 것’이었으므로, 위 정보가 세정공 정에 ‘습식 세정장비 기술’ 중 ‘약액 제어기술’에 해당하는 것으로 볼 여지가 없는 것은 아니다. 나) 그러나 기록에 의하여 알 수 있는 다음과 같은 사정들, 즉 ① 피해회사가 세 7) 앞에서 본 바와 같이 제출된 증거에 의하더라도 별지 범죄일람표 가운데 ‘초임계 세정장비’에 특유한 기술정보가 포함되어 있 다고 보이지 않으나, 검사가 이 부분 공소사실에 이를 명시적으로 표시하였으므로, 그 당부에 관한 판단을 하는 것임을 밝혀 둔다(이 법원이 유죄로 인정하는 범죄사실에서는 이 부분을 직권으로 삭제하였다). - 21 - 정장비의 제작을 의뢰받은 C 측에 요구한 작동조건에 위와 같은 혼합비율이 기재되어 있다는 점만으로 피해회사가 실제로 위와 같은 혼합비율을 공정에 채택하였다고 보기 는 어렵고, 오히려 개발기간 동안 위와 같은 혼합비율을 일시적으로 사용하였던 것으 로 보일 뿐인 점, ② 실제로 피해회사가 위 세정장비를 납품받은 이후 C와의 공동 개 발단계(JDP, Joint Development Project) 및 공동 평가단계(JEP, Joint Evaluation Project)를 거쳐 실제 양산에 사용할 혼합비율을 확정하였던 것으로 보이는데, 확정된 혼합비율은 위에 기재된 바와 달랐던 점(구체적인 수치는 피해회사의 영업상 이익을 고려하여 기재하지 않는다), ③ 황산을 이용한 세정공정에 황산을 600㏄ 사용한다는 사실은 일반적으로 알려져 있고, 거기에 혼합할 약액의 종류와 비율 등이 중요한 정보 에 해당하는 점, ④ 특히 피고인은 ‘황산 600㏄ 및 FND-03 85㏄’라는 비율을 알려준 것이 아니라 ‘황산 600㏄±50㏄, FND-03 85㏄±15㏄’라는 비율을 알려주었는데, 피해 회사나 C가 공정에 위와 같은 허용오차를 실제로 검토하거나 채택하였다고 볼 만한 자료를 찾아볼 수 없고, 위와 같은 허용오차는 기술적인 관점에서 그 폭이 지나치게 큰 것이라고 여겨지는 점, ⑤ 피고인이 사용한 ‘룸템’이라는 용어는, 엔지니어나 상황에 따라서는 ‘상온(常溫, Room Temperature)’ 또는 ‘항온(恒溫, Constant Temperature)’을 의미할 경우에 혼용되는 것으로 보이기는 하나, G이 먼저 ‘상온이 맞는지’를 묻자, 피 고인이 ‘맞아, 룸템...’이라고 답하였으므로, 피고인이 G에게 ‘항온’의 조건을 알려주었 다고 단정하기는 어려운 점 등에 비추어 보면, 이 부분 정보는 피해회사나 C가 실제로 보유하였던 것과 같지 않을 뿐만 아니라 상당히 부정확하므로, 위에서 본 사정만으로 이 부분 정보가 ‘산업기술’에 해당한다고 볼 수는 없다(위와 같이 판단하므로, 이 부분 정보의 보유자가 누구였는지에 관하여는 더 나아가 판단할 필요가 없다). - 22 - 2) 순번 제2번 가) 기록에 의하면, G이 2017. 1. 12.경 피고인에게 ‘반도체 공장의 클린룸 클래 스 스펙정보’를 묻자, 피고인은 “① Airbone[Airborne(공기 중에 부유하는)의 오기임] particle static : 1pcs/min(@100nm), ② Dynamic condition : 1pcs/min(@45nm), ③ PWP initial ±10%(@65nm)”라고 답하였던 사실을 인정할 수 있는데, 피고인이 알려준 정보는 ‘피해회사의 반도체 생산이 이루어지는 클린룸에 납품되는 모든 설비에 적용되 는 EFEM(Equipment Front End Module) 파티클 관리기준 정보’였다. 구체적으로 ① 부분은 ‘설비를 가동하지 않은 상태(static)에서 10nm 직경의 파티클이 1분당 1개 이하로 검출되어야 한다’라는 의미이고, ② 부분은 ‘설비를 가동한 상태(dynamic)에서 45nm 직경의 파티클이 1분당 1개 이하로 검출되어야 한다’라는 의 미이며, ③ 부분은 PWP(Particle Wafer per Pass)를 이용하여 FOUP(웨이퍼 보관함)의 청정도를 평가하는 정보로, ‘웨이퍼를 이송하는 과정에서 직경 65nm 파티클을 기준으 로 이송을 전후하여 10% 내외로 유지되어야 한다’라는 의미이다. 나) 한편 기록에 의하면, 피해회사가 위와 같은 EFEM 파티클 관리기준 정보를 채택하기 시작한 시점은 2005. 1.경이었고, 그 이후 피고인이 위와 같은 정보를 알려주 었던 2017. 1.경에는 이미 EFEM 파티클 관리기준 정보가 변경되었던 것으로 보일 뿐 만 아니라, 그것이 ‘습식 세정장비’나 ‘초임계 세정장비’에만 적용되는 것도 아니었음을 알 수 있다. 그 밖에 검사가 제출한 증거들에 의하더라도 위와 같은 정보가 습식 세정 장비 기술의 핵심인 ‘Process 처리기술’이나 ‘약액 제어기술’과 밀접하게 관련된 특유의 기술이라거나 ‘초임계 건조에 관한 기술로 산업기술보호법 제2조 제2호 등의 요건을 구비한 것’으로 보이지 않는다. - 23 - 3) 순번 제3번 가) 기록에 의하면, G이 2019. 9. 18.경 피고인에게 ‘LAL200 **** 장비에서 bare MT(Monitoring의 약어)가 진행되는지’를 묻자, 피고인은 “****+IPA PC Bare 45nm 100ea, ER Oxide 1k 485±20Å”라고 답하였던 사실을 인정할 수 있는데, 피고인 이 알려준 정보는 ‘피해회사가 **** 약액을 사용하는 세정공정에서 설정한 파티클 기준과 위 약액이 제거하는 막질의 식각률 기준에 관한 정보’였다. 구체적으로 “**** 약액을 사용한 다음 IPA를 건조하는 Oxide 막질 제거공 정에서, ① 공정을 마친 이후 45nm 직경의 파티클(PC)이 100개 이하로 확인되어야 하 고, ② 1,000Å(100nm) 두께의 Oxide 막질을 1분간 노출시켰을 경우 485±20Å 두께만 큼을 제거해야 한다[식각률(ER, Etching Rate)을 의미함]”라는 의미이다. 8) 나) 실제로 피해회사가 당시 위 세정공정에서 위와 같은 모니터링 기준을 채택 하고 있었으므로, 위 정보가 세정공정에 ‘습식 세정장비 기술’ 중 ‘Process 처리기술’에 해당하는 것으로 볼 여지가 있기는 하다. 그러나 이는 웨이퍼 위의 각종 파티클을 패턴에 영향을 미치지 않으면서 제거 (세정~건조)하기 위한 기술로, 챔버부의 여러 설비와 전기장치, 소프트웨어의 구성이 서로 유기적으로 결합하여 작동하게 되는 것이므로, 해당 기술을 구현하는 데 필수불 가결하고, 밀접하게 관련된 특유의 기술만을 첨단기술로 판단하여야 함은 앞에서 본 바와 같다. 위와 같은 모니터링 기준은 피해회사가 특정의 반도체 세정공정에 사용되 는 설비나 재공품‧제품에 관하여 채택한 품질 관리기준을 의미하는데, 위와 같은 정보 들만으로 ’Process 처리기술‘을 구현할 수 있다고 볼 수 없을 뿐만 아니라 그것이 8) 피해회사는 D램과 낸드플래시 제조공정에서 SiO₂를 식각하기 위하여 **** 약액을 사용하는데, 개별 공정마다 세정장비의 성능, 조건 등에 따라 SiO₂의 식각률이 현저히 달라지므로, 공정별로 파티클 관리기준이나 식각률 정보를 도출하여 이를 관 리하고 있다. - 24 - ‘Process 처리기술’을 구현하는 데 필수불가결하고, 밀접하게 관련된 특유의 기술에 해 당한다고 보기는 어려우므로, 이는 ‘산업기술’에 해당하지 않는다(다만, 이 부분 정보가 피해회사의 ‘영업비밀’ 및 ‘영업상 주요한 자산’에 해당함은 앞에서 본 바와 같다). 4) 순번 제4번 가) 기록에 의하면, 피고인이 2020. 7. 7.경 G을 만나 이 부분 정보[① **** Temp(25도 룸템), ② 유량 850㏄/min, ③ 비율 di:esc784 = 20:1 등]를 알려주었던 사 실을 인정할 수 있는데, 피고인이 알려준 정보는 ‘피해회사가 반도체 세정공정 중 **** 약액을 투입할 경우의 온도, 유량, 혼합비율 등에 관한 정보’였고, 그중 산업기 술에 해당할 여지가 있는 것은 ①, ③, ⑤ 부분에 한정됨은 앞에서 본 바와 같다. 구체적으로 ① 부분은 ‘**** 약액을 사용하는 공정은 25°C 항온 상태를 유 지한다’는 의미이고, ③ 부분은 ’위 약액을 초순수(DIW)에 희석하여 사용하는데, 그 비 율은 초순수:**** 약액 = 20:1로 한다‘는 의미이며, ⑤ 부분은 ’피해회사의 반도체 양산 세부공정 단계(15.1), 웨이퍼 상에 형성된 금속 패턴을 상호 연결하여(via) 통전시 키는 배선공정, 유기물(org, organic의 약어) 제거(strip) 공정‘을 의미한다. 나) 앞에서 본 바와 같이 습식 세정장비 기술 중 핵심에 해당하는 ’약액 제어기 술‘은 다양한 성분의 파티클을 제거하기 위하여 적합한 종류의 약액을 특정한 온도, 혼 합비율 등의 조건에서 공급하는 기술을 의미하고, 순번 제4번 정보는 ’피해회사가 파티 클을 제거하기 위하여 특정한 공정에 ****라는 약액을 사용한다는 것과 위 약액을 사용하는 온도, 혼합비율‘로 구성되어 있음을 알 수 있다. 그러나 위와 같은 정보들만 으로 ’약액 제어기술‘을 구현할 수 있다고 볼 수 없을 뿐만 아니라(실제로 ’약액 제어기 술‘을 구현하기 위하여는 약액의 종류, 온도, 혼합비율 외에 약액이 토출되는 방식과 - 25 - 관련한 노즐의 구조, 토출되는 유량, 시간 등의 여러 설비와 조건들이 유기적으로 결합 되어야 하는 것으로 보인다) 그것이 ’약액 제어기술‘을 구현하는 데 필수불가결하고, 밀 접하게 관련된 특유의 기술에 해당한다고 보기는 어려우므로, 이는 ‘산업기술’에 해당 하지 않는다(다만, 이 부분 정보가 피해회사의 ‘영업비밀’ 및 ‘영업상 주요한 자산’에 해 당함은 앞에서 본 바와 같다). 3. 부정경쟁방지및영업비밀보호에관한법률위반(영업비밀누설등) 및 업무상배임의 점 인 정 여부(순번 제1번, 제2번) 가. 관련 법리 1) 부정경쟁방지 및 영업비밀보호에 관한 법률 제2조 제2호에 따르면, ‘영업비밀’ 이란 ‘공공연히 알려져 있지 아니하고 독립된 경제적 가치를 가지는 것으로서, 비밀로 관리된 생산방법, 판매방법, 그 밖에 영업활동에 유용한 기술상 또는 경영상의 정보’를 말하는 것으로, 위 법률은 ‘정당한 권한 없이 또는 허용된 권한을 넘어 타인의 영업비 밀을 훼손‧멸실‧변경하여서는 아니 된다’라고 규정하면서(제9조의8) 부정한 이익을 얻 거나 영업비밀 보유자에게 손해를 입힐 목적으로 위와 같은 행위를 한 자를 형사처벌 하도록 규정하고 있고(제18조 제3항), 위와 같은 목적으로 영업비밀을 취득‧사용하거나 제3자에게 누설하는 등의 행위를 한 자에 대하여도 형사처벌하도록 규정하고 있다(제 18조 제2항 본문). 위와 같은 규정의 형식과 내용, 취지 등에 의하면, 위 법률에 따른 형사처벌의 대상이 되는 ‘영업비밀 누설행위’의 ‘영업비밀’ 자체는 사회통념상 그 보유 자의 것과 동일한 것이라고 평가할 수 있어야 한다. 2) 회사 직원이 경쟁업체 또는 스스로의 이익을 위하여 이용할 의사로 무단으로 자료를 반출한 경우에 업무상배임죄가 성립하기 위하여는, 그 자료가 영업비밀에 해당 - 26 - 할 필요까지는 없다고 하더라도 적어도 그 자료가 불특정 다수인에게 공개되어 있지 않아 보유자를 통하지 아니하고는 이를 통상 입수할 수 없고, 그 자료의 보유자가 자 료의 취득이나 개발을 위해 상당한 시간, 노력 및 비용을 들인 것으로 그 자료의 사용 을 통해 경쟁자에 대하여 경쟁상의 이익을 얻을 수 있는 정도의 영업상 주요한 자산에 해당하는 것이어야 하므로(대법원 2005. 7. 14. 선고 2004도7962 판결, 대법원 2008. 7. 10. 선고 2008도3435 판결 등 참조), 반출한 자료 자체가 사회통념상 그 보유자의 것과 동일한 것이라고 평가할 수 있어야 하고, 그것이 영업상 주요한 자산에 해당하여 야 하는 것이다. 나. 구체적 판단 1) 순번 제1번 가) 이 부분 정보(LP-**** 유량정보 룸템 황산 600±50, FND-03 85±15)는 C가 제작‧납품하여 피해회사가 운용하는 ‘습식 세정장비’에서 사용되는 ‘약액의 종류(황산, FND-03), 혼합비율과 온도’를 나타낸 것으로, 피해회사가 이 사건 당시인 2016. 9.경 C에 제작을 의뢰한 습식 세정장비(WSD401)의 작동조건이 ‘항온(恒溫)에서 황산 600㏄ 및 FND-03 85㏄의 비율로 혼합한 약액을 사용하는 것’이었으므로, 위 정보가 피해회 사나 C의 영업비밀 또는 영업상 주요한 자산이라고 볼 여지가 없는 것은 아니다. 나) 그러나 앞의 ‘2. 산업기술의유출방지및보호에관한법률위반의 점 인정 여부’ 중 ‘라. 구체적 판단’의 이 부분 공소사실 부분에서 든 여러 사정들에 비추어 보면, 이 부분 정보는 피해회사나 C가 실제로 보유하였던 것과 같지 않을 뿐만 아니라 그마저 도 상당히 부정확한 것이었다고 보이므로, 그것으로써 경쟁자에 대하여 유의미한 경쟁 상의 이익을 얻을 수 있는 정도의 경제적 가치가 있는 것이라고 보기도 어렵다. - 27 - 2) 순번 제2번 가) 이 부분 정보는 ‘피해회사의 반도체 생산이 이루어지는 클린룸에 납품되는 설비에 적용되는 EFEM(Equipment Front End Module) 파티클 관리기준 정보’로, 위 정보는 2005. 1.경 채택되었던 것이고, 그 이후 피고인이 위 정보를 알려주었던 2017. 1.경에는 이미 EFEM 파티클 관리기준 정보가 변경되었음은 앞에서 본 바와 같고, 실 제로 피해회사의 직원 H은 이 사건 공판절차에서 “(공정 및 장비의 개선사항에 따라) 피해회사가 파티클 관리기준 정보를 지속적으로 업데이트하는 것으로 알고 있다”라는 취지로 진술한 바 있다. 또한 기록에 의하면, 피해회사는 상당히 오랜 기간 동안 반도 체 공장의 클린룸에 사용할 EFEM 설비들을 다수의 외부업체로부터 공급받아 왔고, 그 중 상당수가 규격화된 형태였음을 알 수 있다. 나) 살피건대, 상당한 시간과 노력 및 비용을 들이지 않고도 통상적인 역설계 등 의 방법으로 쉽게 입수 가능한 상태에 있는 정보라면 보유자를 통하지 아니하고서는 통상 입수할 수 없는 정보에 해당한다고 보기 어려운바(대법원 2022. 6. 30. 선고 2018 도4794 판결 참조), 위에서 본 사정들에 비추어 보면, 위 정보가 ‘영업비밀’로서의 요건 (비공지성, 경제적 유용성, 비밀관리성)을 구비하였다거나 ‘영업상 주요한 자산’에 해당 하는 것이라고 단정하기는 어려운 측면이 있고, 그 밖에 위 정보가 이 사건 당시까지 피해회사에 유의미한 경쟁상 이익을 가져다주는 것이었다고 볼 만한 객관적‧구체적인 근거나 자료도 뒷받침되어 있지 않다. 4. 결 론 가. 이 부분 공소사실 중 순번 제1번, 제2번은 그 전부가 범죄의 증명이 없는 경우에 해당하므로, 형사소송법 제325조 후단에 따라 무죄를 선고하기로 한다. - 28 - 나. 이 부분 공소사실 중 순번 제3번, 제4번의 각 산업기술의유출방지및보호에관한법 률위반의 점은 범죄의 증명이 없는 경우에 해당하여 형사소송법 제325조 후단에 따라 무죄를 선고하여야 할 것이나, 이와 각 상상적 경합관계에 있는 판시 순번 제3번, 제4 번의 부정경쟁방지및영업비밀보호에관한법률위반(영업비밀누설등)죄, 업무상배임죄를 유죄로 인정하므로, 주문에서 따로 무죄의 선고를 하지는 않는다. 판사강영선_________________________ - 29 - 별지 범 죄 일 람 표 순 번 일시누설내용피해회사방법비고판 단 1 2016. 9.12. LP-****유량정보 룸템 황산 600±50FND-03 85±15 B(주),C(주) 카카오톡 메시지 L**** 황산약액, 혼합정보, FND03 약액정보 전부 무죄 2 2017. 1.12. ①Airboneparticle static: 1pcs/min(@100nm) ②Dynamiccondituon :1pcs/min(@45nm) ③PWPinital ±10%(@65nm) B(주)“ 세정설비 내의 파티클 스펙 정보 전부 무죄 3 2019. 9.18. PCBare45nm100ea, EROxide1k485±20Å B(주)“ ****공정 파티클 기준, IPA건조공정 레시피 정보 일부 유죄 4 2020. 7.7. ①****Temp(25도 룸템),②유량 (850cc/min), ③비율 (20:1)di:esc784, ④공급방식 :premix 공정,⑤스텝갯수와 :15.1 viaorgstripVersion별 다양,알려줄 수 없음,⑥ 대표공정 :VIA,M1,M2, M3,F4...,⑦어떤 공정 또는 어떤 설비 초기 Akrion(Velocity)현재 Semes(****),⑧대체약액 EKC590듀퐁 상세 알려줄 수 없음 B(주) 직접 대화, 카카오톡 메시지 **** 관련온도, 유량, 공급방식 등 정보 일부 유죄 끝.