저온 플라즈마 소독장치 특허 출원 거절에 대한 심판 청구

• 원고는 '저온 플라즈마 소독장치'라는 발명에 대해 특허를 출원했다(1998년 7월 13일).
• 특허청은 이미 존재하는 미국 특허(인용발명)와 비교해 진보성이 없다는 이유로 2001년 2월 거절 결정을 내렸다.
• 원고는 특허심판원에 거절 결정 취소를 청구했으나, 2002년 7월 심판원이 이를 기각했다.
• 원고는 심판 기각 결정을 취소해 달라는 소송을 제기했다.

원고가 출원한 '저온 플라즈마 소독장치' 특허가 기존 특허와 비교해 새롭거나 진보적이지 않다는 이유로 특허청이 거절 결정을 내렸고, 특허심판원도 이를 인정해 원고의 심판 청구를 기각했다. 쟁점은 심판 과정에서 원고에게 추가 의견 제출이나 보정 기회를 줘야 하는지였으며, 법원은 절차상 문제가 없다고 판단해 원고의 청구를 받아들이지 않았다.

• 심판원은 기존 인용발명에 대해 주지관용의 기술(해당 분야에서 널리 알려진 기술)임을 인정했고, 심판 과정에서 이를 예시로 든 것에 불과해 새로운 거절 이유를 내세운 것은 아니라고 봤다.
• 따라서 원고에게 추가 의견 제출이나 보정 기회를 주지 않은 것은 절차상 위법이 아니라고 판단했다.
• 출원 발명과 인용발명은 모두 과산화수소 플라즈마를 이용해 물체 표면을 소독하는 목적이 같고, 플라즈마 발생장치의 종류 등에서 약간 차이가 있으나 이는 해당 분야에서 쉽게 생각해낼 수 있는 수준이라고 봤다.
• 원고가 주장한 기술적 차이와 효과의 차이도 기존 기술과 비교해 특별한 차이가 없다고 판단했다.
• 따라서 출원 발명은 기존 인용발명으로부터 쉽게 생각해낼 수 있는 것으로 특허를 받을 수 없다고 결론 내렸다.

원고가 출원한 저온 플라즈마 소독장치는 기존 특허와 비교해 새롭거나 진보적이지 않다고 판단되어 특허가 거절되었고, 심판 과정에서 절차상 문제도 없다고 법원이 판단했다. 이에 따라 원고의 특허 취소 요구는 받아들여지지 않았다.